Технология за машинно покритие с оптично вакуумно покритие

Машините за оптично вакуумно покритие се използват широко в индустрията, като камери за мобилни телефони, калъфи за мобилни телефони, екрани за мобилни телефони, цветни филтри, лещи за очила и др. Стандартът за прецизност е много висок и могат да бъдат покрити различни покрития, като AR антирефлексно фолио, декоративно изкуство Пластмасовите фолиа, моторните керамични фолиа, подобрените отразяващи фолиа, ITO проводящите фолиа и фолиата против обрастване имат висок процент от продажбите на пазара.

Каква технология за обработка използва машината за оптично вакуумно покритие, за да покрие толкова много слоеве?

Когато машината за оптично вакуумно покритие се изпарява и натрупва, изходните суровини във вакуумната система се нагряват или отрицателните електрони на йонния лъч се изпаряват. Предполага се, че парата е на оптичната повърхност. По време на периода на изпаряване, според прецизното манипулиране на нагряването, работното налягане на вакуумната помпа и прецизното позициониране и въртене на субстрата, може да се получи равномерно оптично покритие със специална дебелина. Изпаряването има относително нежни характеристики, което ще направи покритието все по-рохкаво или поресто. Този вид разхлабено покритие има способността да абсорбира вода, което променя разумния индекс на пречупване на филма, което ще доведе до намалени характеристики. Летливите покрития могат да бъдат подобрени чрез технология за отлагане с помощта на електронен лъч, по време на която електронният лъч се насочва към повърхността на пластината. Това подобрява адсорбцията на относителния оптичен повърхностен слой на изходния материал, което води до голямо вътрешно напрежение, което насърчава по-висока плътност и по-голяма издръжливост на покритието.

Високоенергийното електростатично поле може да ускори електронния лъч при електронно-лъчево магнетронно разпръскване (IBS) на оптичната машина за вакуумно нанасяне на покрития. Тези моментни скорости индуцират значителна механична енергия в положителните йони. При сблъсък с изходния материал, електронният лъч "магнетронно разпръсква" молекулите на целевия материал. Магнетронно разпръснатите целеви положителни йони (молекулите се превръщат в положителни йони от зоната на хидролиза) също притежават механична енергия, което води до плътен филм при контакт с оптичната повърхност. IBS е прецизна и повторяема техника.

Устройство за оптично вакуумно покритие Плазменото магнетронно разпрашване е общ термин за поредица от технологии като плазмено магнетронно разпрашване от висок клас и магнетронно разпрашване. Без значение за каква технология става въпрос, тя включва създаването на плазма. Положителните йони в плазмата се ускоряват в изходния материал, сблъскват се със свободни енергийни положителни йони и след това магнетронно разпръскване върху цялостния целеви оптичен компонент. Въпреки че различните видове плазмено магнетронно разпрашване имат своите уникални характеристики, предимства и недостатъци, можем да комбинираме тази технология заедно, тъй като те имат един и същ принцип, разликата между тях, сравнете този вид технология за покритие и хартията Другите техники за покритие, обхванати в са много по-малко различни един от друг.

За разлика от отлагането чрез изпаряване, изходният материал, използван за отлагане на молекулен слой (ALD), не се изпарява от течността, а веднага съществува под формата на пара. Въпреки че процесът използва пара, във вакуумната система все още са необходими високи температури на околната среда. В целия процес на ALD прекурсорът за газова хроматография се доставя в съответствие с единичния импулс без разплитане, а единичният импулс е самоограничен. Този тип обработка има уникална схема на химичен дизайн, всеки отделен импулс се придържа само към един слой и няма специално изискване за геометрията на оптичния повърхностен слой. Следователно, този тип обработка ни позволява да контролираме дебелината и дизайна на покритието в относително висока степен, но ще намали скоростта на натрупване.